在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是…
HMDS烘箱/HMDS预处理/HMDS烤箱/HMDS预处理烘箱（容积：20升）
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HS40-HMDS预处理烘箱
HS40在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子…
HMDS基片预处理系统/充HMDS气体真空烘箱/HMDS真空烤箱（容积：210升）
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是…
20升真空干燥箱【BPZ-6020】
适用于干燥水分含量高的物品，真空泵定时开启和关闭，通过不断充气和抽气循环干燥来实现理想干燥效果。抽气时间，充气时间和循环次数可调。
HMDS预处理系统/充HMDS气体真空烘箱/HMDS真空烤箱（容积：90升）
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是…
变频调速高真空专用真空搅拌机
主要用于搅拌膏体浆料，同时进行真空脱泡，使浇注成型的成品密实无气泡，表面细腻光滑，能通过注浆成型生产出高质量的产品。
真空氮气置换柜【满足超低湿度无氧存储需求】
此置换柜主要用以满足电子行业中苛刻的超低湿度无氧存储需求而设计的，通过持续的向柜内注入氮气而降低含氧量，从而达到如下目的：防止湿气的吸收/干燥电子元件/避免氧化、尘埃和颗粒。
210升真空干燥箱【BPZ-6210】
适用于干燥水分含量高的物品，真空泵定时开启和关闭，通过不断充气和抽气循环干燥来实现理想干燥效果。抽气时间，充气时间和循环次数可调。
90升真空干燥箱【BPZ-6090】
适用于干燥水分含量高的物品，真空泵定时开启和关闭，通过不断充气和抽气循环干燥来实现理想干燥效果。抽气时间，充气时间和循环次数可调。
50升真空干燥箱【BPZ-6050】
适用于干燥水分含量高的物品，真空泵定时开启和关闭，通过不断充气和抽气循环干燥来实现理想干燥效果。抽气时间，充气时间和循环次数可调.
30升真空干燥箱【BPZ-6030】
适用于干燥水分含量高的物品，真空泵定时开启和关闭，通过不断充气和抽气循环干燥来实现理想干燥效果。抽气时间，充气时间和循环次数可调。